鉭硅復合介質薄膜皮秒脈沖激光刻蝕機理研究

摘要： 針對鉭硅復合介質薄膜表面精密刻槽需求，運用532 nm皮秒激光在鉭硅復合介質薄膜表面進行刻蝕，利用光學顯微鏡、掃描電子顯微鏡、激光共聚焦顯微鏡和能譜儀分別對激光刻蝕后組織的顯微形貌、元素成分進行分析。通過建立三維燒蝕模型對激光與鉭硅復合介質薄膜作用的溫度場進行分析。結果表明，當激光能量密度為3.24 J/cm~2時，可以在不損傷二氧化硅介質薄膜和基材的情況下將氧化鉭介質薄膜有效... （共11頁）