含碳化硅晶須的還原氧化石墨烯多孔電磁屏蔽薄膜及其多層結(jié)構(gòu)（英文）

摘要： 輕質(zhì)柔性的電磁屏蔽薄膜材料的開發(fā)具有重要的意義。本文報道了一種含碳化硅晶須的還原氧化石墨烯（SiC@RGO）多孔電磁屏蔽薄膜，其中氧化石墨烯的還原采用兩步法，即HI化學(xué)還原，加固相微波處理。僅3s的固相微波處理便可高效還原氧化石墨烯，同時，快速釋放的氣體使薄膜厚度從約20μm增加至200μm，且薄膜獲得多孔結(jié)構(gòu)。當(dāng)氧化石墨烯與碳化硅晶須的質(zhì)量比為4∶1時，該薄膜的電磁屏蔽效能達(dá)... （共11頁）